Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes

Gespeichert in:

Personen und Körperschaften:	Luft, Werner (VerfasserIn), Tsuo, Y. Simon (VerfasserIn), Tsuo, Y. S. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Tsuo, Y. Simon [VerfasserIn] • Tsuo, Y. S. [VerfasserIn]
Format:	Buch
Sprache:	Englisch
veröffentlicht:	New York, NY [u.a.] Dekker c 1993
Gesamtaufnahme:	Applied physics ; 1
Schlagwörter:	Thin film devices > Design and construction Silicon alloys Plasma-enhanced chemical vapor deposition Thin films > Optical properties Thin films > Electric properties Siliciumverbindungen > Wasserstoff > Amorpher Zustand > Abscheidung Siliciumverbindungen > Dünnschichttechnik > Halbleiter > Solarzelle
Quelle:	Verbunddaten SWB
Fachgebiet:	DK 546.28 DK 621.382 DK 621.383.7 DK 620.22 DK 539.23
Signatur:	95.4747 8.
Standort:	95.4747 8.
ISBN:	0824791460