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Failure stress of epitaxial silicon thin films

Gespeichert in:

Veröffentlicht in: Energy Procedia 38 (2013), S. 926-932
Personen und Körperschaften: Käsewieter, Jörg (VerfasserIn), Kajari-Schröder, Sarah (VerfasserIn), Niendorf, Thomas (VerfasserIn), Brendel, Rolf (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Kajari-Schröder, Sarah [VerfasserIn] • Niendorf, Thomas [VerfasserIn] • Brendel, Rolf [VerfasserIn]
Format: E-Book Sonderdruck
Sprache: Englisch
veröffentlicht:
Hannover Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover 2013
Hannover Technische Informationsbibliothek (TIB) 2013
Hannover Leibniz Universität Hannover
Gesamtaufnahme: Failure stress of epitaxial silicon thin films; 38 (2013), S. 926-932
Quelle: Verbunddaten SWB
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