Atomic layer deposition: principles, characteristics, and nanotechnology applications

Gespeichert in:

Personen und Körperschaften:	Kääriäinen, Tommi (VerfasserIn), Cameron, David (Sonstige), Kääriäinen, Marja-Leena (Sonstige), Sherman, Arthur (Sonstige)
Weitere Verfasser:	Cameron, David 1949- [Sonstige] • Kääriäinen, Marja-Leena [Sonstige] • Sherman, Arthur 1931- [Sonstige]
Ausgabe:	2. ed.
Format:	Buch
Sprache:	Englisch
veröffentlicht:	Beverly, Mass. Scrivener Publ. 2013 Hoboken, NJ Wiley 2013
Schlagwörter:	Chemical vapor deposition Epitaxy Microelectronics Nanotechnology Atomic layer deposition Atomlagenabscheidung
Quelle:	Verbunddaten SWB
Fachgebiet:	DK 66.091
Signatur:	14.1952 8.
Standort:	14.1952 8.
ISBN:	9781118062777

Online

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14.1952/18.	Verfügbar Regalstandort: Lesesaal (LS) ⋅ 66.0 Ato Regalstandort