Eintrag weiter verarbeiten
Regrowth rates and dopant activation of Sb+-implanted Si-Ge alloys
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Journal of Applied Physics |
---|---|
Personen und Körperschaften: | , , |
In: | Journal of Applied Physics, 72, 1992, 8, S. 3821-3823 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
AIP Publishing
|
Schlagwörter: |