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Characteristics of the Si-SiO2 interface states in thin (70–230 Å) oxide structures
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Journal of Applied Physics |
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Personen und Körperschaften: | , |
In: | Journal of Applied Physics, 61, 1987, 12, S. 5353-5359 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
AIP Publishing
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Schlagwörter: |