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Defect engineering for high quality InP epitaxially grown on on-axis (001) Si

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Zeitschriftentitel: Journal of Applied Physics
Personen und Körperschaften: Shi, Bei, Klamkin, Jonathan
In: Journal of Applied Physics, 127, 2020, 3
Format: E-Article
Sprache: Englisch
veröffentlicht:
AIP Publishing
Schlagwörter: