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XPS Investigation of a CdS-Based Photoresistor under Working Conditions: Operando–XPS
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Analytical Chemistry |
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Personen und Körperschaften: | , , |
In: | Analytical Chemistry, 84, 2012, 6, S. 2990-2994 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
American Chemical Society (ACS)
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Schlagwörter: |