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Smooth and Vertical Etching of GaAs/GaInP/AlGaInP Using Inductively Coupled Cl2/BCl3/CH4Plasma

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Zeitschriftentitel: Japanese Journal of Applied Physics
Personen und Körperschaften: Hao, Zhibiao, Han, Shuo, Ren, Fan, Xiong, Bing, Sun, Changzheng, Luo, Yi
In: Japanese Journal of Applied Physics, 43, 2004, 12, S. 8304-8307
Format: E-Article
Sprache: Englisch
veröffentlicht:
IOP Publishing
Schlagwörter: