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Smooth and Vertical Etching of GaAs/GaInP/AlGaInP Using Inductively Coupled Cl2/BCl3/CH4Plasma
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Japanese Journal of Applied Physics |
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Personen und Körperschaften: | , , , , , |
In: | Japanese Journal of Applied Physics, 43, 2004, 12, S. 8304-8307 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
IOP Publishing
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Schlagwörter: |