Eintrag weiter verarbeiten
Verfügbar über Online-Ressource

Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition – Technological Design Of Functional Coatings

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Zeitschriftentitel: Archives of Metallurgy and Materials
Personen und Körperschaften: Januś, M., Kyzioł, K., Kluska, S., Konefał-Góral, J., Małek, A., Jonas, S.
In: Archives of Metallurgy and Materials, 60, 2015, 2, S. 909-914
Format: E-Article
Sprache: Unbestimmt
veröffentlicht:
Walter de Gruyter GmbH
Schlagwörter: